溫州杭州臺州金華寧波水處理設備/EDI設備
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人氣：1408 發(fā)布時間：2010-08-20 21:31 關鍵詞：飲用水設備 產(chǎn)品型號： 應用領域：水處理 產(chǎn)品價格：面議 想了解更多產(chǎn)品詳情，請 |
EDI原理及工作過程
EDI技術是將兩種已經(jīng)成熟的淨水技術：電滲析和離子交換技術相結合。將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜（專用膜）之間形成EDI單元(俗稱淡水室)，在一
定電壓、電流作用下使離子從淡水室進入到鄰近的濃水室。
EDI組件將給水合成三股獨立的水流:
① 純水（最高利用率爲90-99%）
② 濃水（純水的5-10%）
③ 極水（1-2%排放）
極水先經(jīng)過陽極區(qū)再進入陰極區(qū)。極水可以從電極區(qū)攜出電解産生的氯氣、氧氣和氫氣。
EDI與傳統(tǒng)溫床的比較
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項目
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EDI
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溫床
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產(chǎn)水性質
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15～18MΩ·cm
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2～10MΩ·cm
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穩(wěn)定性
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水質穩(wěn)定
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水質受樹脂交換狀況，再生品質影響大
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操作性
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操作簡便，無需專業(yè)熟練工
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再生時對操作人員操作水平要求高
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環(huán)保性
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無需酸堿，無任何化學汙染
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需要酸堿再生，需解決酸堿儲存與排放的問題
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連續(xù)運行
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再生時無需停機，邊運行邊再生
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再生時需要停機再生
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運行費用
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低
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高
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初期投資
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較高
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低
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拋光混床
采用高交換容量、充分再生、無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電
離子及弱電解質，使水質達到18MΩ·cm以上。
EDI模塊進水條件
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PH值
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5.0～9.5
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電導率
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1~20μs/cm,最佳導電率2～20μs/cm
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總C02
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<5ppm
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硅
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<0.5ppm
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硬度以（CaC03計）
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<1.0ppm
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進水壓力
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0.15～0.5MPa
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典型超純水工藝流程圖
應用領域
超純水常用于微電子工業(yè)、半導體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實驗室。
流程1：預處理+單級反滲透+EDI+拋光樹脂
流程2：預處理+雙級反滲透+EDI+拋光樹脂
流程3：預處理+雙級反滲透+混床MB+拋光樹脂
ＥＤＩ模塊結構特點
1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料
2、EDI膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜
3、采用進口EDI專用均粒樹脂和國產(chǎn)EDI專用均粒樹脂
4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術
5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。
6、固定螺絲采用國標標準件
7、膜堆出廠最高試壓7bar不漏水
8、膜堆電阻低、功耗小
9、外觀裝飾板造型美觀結實
10、最大膜堆處理水量3T/H，最小模堆處理水量75L/H
11、純水、濃水、極水通道設計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。
進水指標要求
◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：＜25ppm。
◎電導率：＜40μS/cm
◎ＰH：6.0～9.0。當總硬度低于0.1ppm時，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度： 5～35℃。
◎進水壓力：＜4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計）：＜1.0ppm。
◎有機物（ TOC）：＜0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。
◎變價金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。
◎H2S：＜0.01ppm。
◎二氧化硅：＜0.5ppm。
◎色度：＜5APHA。
◎二氧化碳的總量：＜10ppm
◎ SDI 15min：＜1.0。
